半导体硅片清洗超纯水系统建设
半导体超纯水 陕西省 · 西安市 · 2026-09-05 · 3 次浏览
某半导体材料企业，主要从事硅基片加工与清洗。生产工艺要求冲洗用超纯水电阻率稳定达到 18.2MΩ·cm，对微粒、TOC、细菌等指标要求极高，任何一项波动都会直接反映到成品表面。
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项目背景
某半导体材料企业，主要从事硅基片加工与清洗。生产工艺要求冲洗用超纯水电阻率稳定达到 18.2MΩ·cm，对微粒、TOC、细菌等指标要求极高，任何一项波动都会直接反映到成品表面。
客户痛点
①原系统出水电阻率波动大，硅基片表面出现小白点与气泡残留，影响成品率；②EDI 模块与终端超滤使用一段时间后水质衰减快，一时找不到原因；③终端管路与用水点存在死角，微生物滋生难以控制；④没有在线水质监测与更换记录，出问题只能靠成品率反推。
合作内容
超纯水系统工艺诊断 + EDI 与终端超滤维护 + 管路死角整改与消毒 + 在线水质监测 + 定期水质检测与年度维保。
📷 项目现场实拍
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改造前设备现场
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改造后设备现场
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中控系统与仪表
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客户访谈实录
💬 客户访谈原话
「超纯水这块我们最怕的不是设备坏，是水看着达标、做出来却有问题。工程师把用水点和管路死角都排查了一遍，还建了水质档案，什么时候该换模块提前提醒。现在成品率稳了，我们才敢把产能加上去。」
📊 改造前后数据对比
| 指标 | 改造前 | 改造后 |
|---|---|---|
| 出水电阻率 | 波动 15~18MΩ·cm | 稳定 ≥18.2MΩ·cm |
| 硅片表面不良率 | 约 3.5% | 降至 0.8% |
| 终端水质检测频次 | 每周 1 次 | 每月 1 次 |
✅ 项目效果
出水电阻率稳定在 18.2MΩ·cm 以上；硅基片表面小白点与气泡问题消除，成品率提升；终端水质检测周期由每周一次延长至每月一次。