半导体超纯水系统硅污染在线清洗
半导体超纯水 陕西省 · 西安市 · 2026-07-06 · 223 次浏览
西安某 12 寸晶圆材料厂商，超纯水系统运行 14 个月后产水电阻率由 18.2 MΩ·cm 缓慢跌至 17.4，末端抛光混床频繁再生。
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项目背景
西安某 12 寸晶圆材料厂商，超纯水系统运行 14 个月后产水电阻率由 18.2 MΩ·cm 缓慢跌至 17.4，末端抛光混床频繁再生。
客户痛点
硅基小白点沉积在抛光段，常规酸碱洗无效；停机清洗影响产线投料节奏。
合作内容
黎民康驻场诊断，定位为一级反渗透浓水侧硅饱和析出，定制低pH硅分散清洗方案 + 运行参数优化，不拆膜在线处理。
📷 项目现场实拍
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改造前设备现场
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改造后设备现场
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中控系统与仪表
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客户访谈实录
💬 客户访谈原话
「他们没动膜，靠配方和参数就把电阻率拉回来了，比整机厂建议换膜省了一大笔。」
📊 改造前后数据对比
| 指标 | 改造前 | 改造后 |
|---|---|---|
| 产水电阻率 | 17.4 MΩ·cm | 18.2 MΩ·cm |
| 抛光混床再生周期 | 7 天 | 21 天 |
| 年停机时长 | 36 h | 8 h |
✅ 项目效果
72 小时内电阻率恢复 18.2 MΩ·cm，抛光混床再生周期由 7 天延长至 21 天，年节省再生药剂与停机损失约 38 万元。